Перейти до вмісту
Мікросистеми, Електроніка та Акустика
ISSN 2523-4447 · e‑ISSN 2523-4455 Відкритий доступ · CC BY-SA 4.0
Т. 22 · № 6 · 2017 гру 29, 2017 Вакуумна, плазмова та квантова електроніка

Генерація надвисокочастотної плазми за допомогою еванесцентних хвиль

VP
Volodymyr Volodymyrovych Perevertailo Відповідальний Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» Україна
AK
Anatoly Ivanovitch Kuzmichev Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» Україна
Сторінки12-17 Опублікованогру 29, 2017
PDF
ТОМ 22 · № 6 · 2017 Переглянути випуск

Анотація

У даній роботі проведено аналіз та порівняння можливих конструктивних особливостей надвисокочастотних генераторів низькотемпературної плазми, які будуються на базі еванесцентних хвиль. У статті розглянуто три підходи, що забезпечують збудження еванесцентної хвилі: збудження за допомогою позамежного хвилеводу; еванесцентна хвиля, що збуджується за допомогою поверхневої хвилі; еванесцентна хвиля, що збуджується поблизу поверхні діелектрика за рахунок ефекту порушення повного внутрішнього відбиття. Представлено результати перших експериментів використання таких генераторів та визначені перспективи їх подальшого застосування для іонно-плазмової технології обробки великих підкладок. На основі проведеного дослідження висунуті пропозиції щодо актуальності майбутніх розробок у даному напрямку. Метою дослідження є проблема забезпечення зони однорідності оброблюваної поверхні твердого тіла великої площі (метри квадратні). Бібл. 13, рис. 6.

Ключові слова

Посилання

  1. B. Danilin, Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia naneseniia tonkih plenok [Low-temperature plasma application for thin film deposition], Moscow: Energoatomizdat, 1989, p. 328. ISBN 5-283-03939-0
  2. B. Danilin; V.Kireev, Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia travlenia i ochistki materialov [Low-temperature plasma application for etching and cleaning of materials], Moscow: Energoatomizdat, 1987, p. 264.
  3. N. G. Einspruch; D. M. Brown, Plasma processing for VLSI, Orlando: Academic Press, 1984, p. 469.
  4. Y. N. Korkishko, Vvedenie v protsessy integralnykh mikro- i nanotehnologyi. Tom 2: Tehnologicheskie aspekty [Introduction to processes of integral micro- and nanotechnology. Vol. 2. Technological aspects], vol. 2, Moscow: BINOM. Laboratory of knowledge, 2011, p. 252. ISBN 5-9963-0336-6
  5. O. Volpian; A. Kuzmichev; V. Perevertailo, «Bezelektrodnyi activator reaktsionnogo gaza dlia opticheskoi tonkoplenochnoi technologii. [Electrodeless activator of reactive gas for optical thin-film technology],» Nanoingeneria, no. 9, pp. 11-16, 2014.
  6. O. Volpian; A. Kuzmichev, Otritsatelnoe prelomlenie voln. Vvedenie v fiziku I technologiu elektromagnitnyh metamaterialov [Negative refraction of waves. Introduction to the physics and technology of electromagnetic metamaterials], Kyiv: Avers, 2012, p. 360.
  7. O. Volpian; A. Kuzmichev, «Nanorazmernye elektronno-fotonnye ustroistva na osnove poverhnostnyh plazmonnyh poliaritonov. [Nanoscale electron-photon devices based on surface plasmon polaritons],» Electronics and Communications, vol. 16, no. 1, pp. 5-11, 2011.
  8. I. Lebedev, Tehnika i pribory SVCh. Tom 1 [Microwave technique and devices. Vol. 1], Moskow: Vyshaya shkola, 1970, p. 440.
  9. E. F. Abdel; M. Suzuki; Y. Kitamura; H. Shindo, "Large-scaled line plasma production by evanescent microwave in a narrow rectangular waveguide," in 28th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, ICPIG'2007 , Prague, Czech Republic, 2007.
  10. E. F. Abdel; S. Fuji; H. Shindo, "Large-scaled line plasma production by evanescent microwave," Plasma Devices and Operations, vol. 17, no. 3, p. 221–228, 2009. DOI: 10.1080/10519990902958029
  11. G. Shanmugavelayutham; R. Ramasamy; T. Fukasawa; H. Kajiyama; T. Shinoda, "Development of uniform line-shaped plasma under long wavelength evanescent microwave (LWEM) for PDP processing," in The 9th Asian Symposium on Information Display, ASID'2006 , New Delhi, India, 2006.
  12. Y. Yoshida; H. Ogura, "Compact holey-plate plasma source," Vacuum, vol. 74, no. 3-4, pp. 509-513, June 2004. DOI: 10.1016/j.vacuum.2004.01.022
  13. Emanuel Stockman; James Michael; Alex Fuller; Sohail Zaidi; Richard Miles, "Toward high Q, evanescent coupled microwave controlled combustion," in 47th AIAA Aerospace Sciences Meeting Including The New Horizons Forum and Aerospace Exposition , Orlando, Florida, USA, 2009. DOI: 10.2514/6.2009-491
§ 06 — Пов'язані

Схожі статті в цьому журналі

Пов'язані рецензовані дослідження, опубліковані в цьому журналі.
Усі випуски

Моделювання надвисокочастотного генератора плазми

Volodymyr Volodymyrovych Perevertailo

Представлено результати 3D моделювання хвилеводно-резонаторного тракту спільно з газорозрядною камерою, шляхом чого було розраховано геометричні параметри НВЧ генератора…

#надвисокочастотний генератор плазми #3D моделювання #НВЧ тракт #хвилевід
с. 16-22
10.20535/2523-4455.2018.23.1.105252

Поліпшення параметрів рентгенотелевізійних систем на основі електронних перетворювачів

Natalia Victorovna Shinkarenko

Відзначені переваги плоскопанельних детекторів, які є основою перспективної цифрової рентгенотехніки, порівняно з рентгенівською плівкою, запам’ятовуючими пластинами…

#плоский детектор #КМОН #ПЗЗ #рентген
с. 18-28
10.20535/2523-4455.2017.22.6.107063

Квазістатична ідентифікація структури затінення сонячних панелей за методом векторів кардинальних чисел

PhD, доц. Олена Олегівна Абакумова, д-р техн. наук, проф. Валерій Якович Жуйков, Микола О. Лук'янов

У статті розглянуто проблему ідентифікації структури затінення сонячних панелей. Актуальність дослідження зумовлена необхідністю швидкої та адекватної реконфігурації…

#Сонячні панелі #Фотоелектрична поверхня #Моделювання структури тіней #Квазістатична ідентифікація
с. 362283.1-362283.7
10.20535/2523-4455.mea.362283

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають

Схожі статті

1-10 з 33

Ви також можете розпочати розширений пошук схожих статей для цієї статті.