сер 30, 2020 Мікросистеми та фізична електроніка

Особливості використання алмазоподібних вуглецевих плівок в якості антивідбивних  покриттів

DZ
Dmytro Zelinskyi Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського»
ВГ
В'ячеслав Горохов V. Bakul Institute for Superhard Materials
ОК
Ольга Кондратенко Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьов
ЛШ
Людмила Шмирова Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського»
ТС
Тетяна Семикіна Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьов
Сторінки16-20 Опублікованосер 30, 2020 ЛіцензіяВідкритий доступ
pdf

Анотація

Плівки аморфного гідрогенізованого вуглецю а-С:Н завдяки таким властивостям, як хімічна інертність, інфрачервнева прозорість, твердість, зносостійкість, низький коефіцієнт тертя та біосумісність знаходять застосування в оптиці і електроніці, машинобудуванні та медицині. В представленій роботі плівки аморфного вуглецю досліджуються з метою подальшого їх застосування в якості антивідбиваючого покриття на інфрачервневих вікнах з германію, а також для орієнтування рідких кристалічних шарів в рідкокристалічних модуляторах світла. В роботі наведено технологічні чинники плазмохімічного осадження плівок з газової фази як одного з найпоширеніших та результативних технологічних методів. Серія з трьох алмазоподібних вуглецевих плівок була виготовлена за допомогою плазмохімічної установки для осадження a-C:H плівок. Осаджені плівки аналізували спектроскопічним еліпсометром Semilab SE-2000, що являє собою унікальну модульну оптичну платформу, що включає спектроскопічний еліпсометр з обертовим компенса тором. Спектральний еліпсометр дозволяє проводити безконтактний, неруйнівний оптичний аналіз одно- і багатошарових структур на кремнії, склі, плівковому носії, а також визначати товщину тонкоплівкових зразків і їх оптичні властивості такі як: коефіцієнт заломлення, показник поглинання, оптична ширина забороненої зони. В роботі наведено залежності отриманих еліпсометричних коефіцієнтів. На основі отриманих залежностей було виконано розрахунки з використанням матриць та рівнянь Френеля. На основі вимірювань залежності коефіцієнта відбиття від кута падіння монохроматичного випромінювання  реалізовані можливості багатопараметричного, локального, експрес-неруйнівного визначення товщини, показників заломлення та поглинання шарів від кількох нанометрів до десятих мікрометра. Отримані значення для n, k і d знаходяться в діапазонах: для n - 1,448 - 1,621, для k - 0,345 - 0,062, а для d  від 136,20 нм до 74,66 нм. Для викорис тання вуглецевих плівок в якості антивідбивних покриттів необхідно, щоб його показник заломлення мав значення близько 2,0. Отримані значення показника заломлення є меншими, що не відповідає вимогам для антивідбивних покриттів. Але значення n - 1,448 - 1,621 задовольняє вимогам використання плівок для формування однорідної орієнтації рідких кристалів в пристроях на їх основі. 

Ключові слова

Ліцензія

CCBY 4.0
Creative Commons Із зазначенням авторства 4.0 Міжнародна

Ця робота має відкриту ліцензію: вільно поширюйте та адаптуйте її, посилаючись на авторів і журнал. Умови ліцензії ↗

Схожі статті

Ви також можете розпочати розширений пошук схожих статей для цієї статті.